| Ni—Cr—Al—Y涂层真空热处理过程中元素的行为 | |
| 王冰; 黄荣芳; 宫骏; 王启民; 梁越; 孙超; 闻立时; 韩雅芳 | |
| 2000 | |
| Source Publication | 金属学报
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| ISSN | 0412-1961 |
| Volume | 36.0Issue:010Pages:1094-1098 |
| Abstract | 采用电弧离子镀技术在铸造镍基合金Ｋ１７和Ｎｉ３Ａｌ基合金ＩＣ－６沉积Ｎｉ－Ｃｒ－Ａｌ－Ｙ涂层。结果表明，在沉积过程中由于电弧离子镀的“溅射”和“反溅射”效应以及基体和涂层发生互扩散的共同作用下，沉积的Ｎｉ－Ｃｒ－Ａｌ－Ｙ涂层在靠近基体区含有少量基体元素，如Ｃｏ，Ｔｉ和Ｍｏ等，Ｋ１７合金中的Ａｌ元素可抑制Ｃｒ由涂层向基体扩散，ＩＣ－６合金中由于还含有Ｍｏ元素，使这种抑制作用进一步增强，在１０５０℃真 |
| Keyword | Ni－Cr－Al－Y涂层 真空热处理 互扩散 微观结构 |
| Indexed By | CSCD |
| Language | 中文 |
| CSCD ID | CSCD:675695 |
| Citation statistics |
Cited Times:7[CSCD]
[CSCD Record]
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| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/142512 |
| Collection | 中国科学院金属研究所 |
| Affiliation | 中国科学院金属研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 王冰,黄荣芳,宫骏,等. Ni—Cr—Al—Y涂层真空热处理过程中元素的行为[J]. 金属学报,2000,36.0(010):1094-1098. |
| APA | 王冰.,黄荣芳.,宫骏.,王启民.,梁越.,...&韩雅芳.(2000).Ni—Cr—Al—Y涂层真空热处理过程中元素的行为.金属学报,36.0(010),1094-1098. |
| MLA | 王冰,et al."Ni—Cr—Al—Y涂层真空热处理过程中元素的行为".金属学报 36.0.010(2000):1094-1098. |
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