| 纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结 | |
| 李亚利; 梁勇; 佟百运; 郑丰; 马贤峰; 崔硕景; 赵伟 | |
| 1997 | |
| Source Publication | 材料研究学报
 |
| ISSN | 1005-3093 |
| Volume | 11.0Issue:005Pages:473-478 |
| Abstract | 用六面顶超高压在１．０－５．０ＧＰａ，２５－１５００℃条件下烧结激光法制备的纳米非晶Ｓｉ３Ｎ４粉，有“冷烧结”特性。表现为：在５ＧＰａ，室温下压制的块体密度达理论值的９３％，这是高压下纳米粒子产生流变的结果。 |
| Keyword | 纳米材料 陶瓷材料 非晶 烧结 激光法 |
| Indexed By | CSCD |
| Language | 中文 |
| CSCD ID | CSCD:360949 |
| Citation statistics | |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/144689 |
| Collection | 中国科学院金属研究所 |
| Affiliation | 中国科学院金属研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 李亚利,梁勇,佟百运,等. 纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结[J]. 材料研究学报,1997,11.0(005):473-478. |
| APA | 李亚利.,梁勇.,佟百运.,郑丰.,马贤峰.,...&赵伟.(1997).纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结.材料研究学报,11.0(005),473-478. |
| MLA | 李亚利,et al."纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结".材料研究学报 11.0.005(1997):473-478. |
| Files in This Item: | There are no files associated with this item. | |||||
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment