纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结 | |
李亚利; 梁勇; 佟百运; 郑丰; 马贤峰; 崔硕景; 赵伟 | |
1997 | |
Source Publication | 材料研究学报
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ISSN | 1005-3093 |
Volume | 11.0Issue:005Pages:473-478 |
Abstract | 用六面顶超高压在1.0-5.0GPa,25-1500℃条件下烧结激光法制备的纳米非晶Si3N4粉,有“冷烧结”特性。表现为:在5GPa,室温下压制的块体密度达理论值的93%,这是高压下纳米粒子产生流变的结果。 |
Keyword | 纳米材料 陶瓷材料 非晶 烧结 激光法 |
Indexed By | CSCD |
Language | 中文 |
CSCD ID | CSCD:360949 |
Citation statistics | |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/144689 |
Collection | 中国科学院金属研究所 |
Affiliation | 中国科学院金属研究所 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 李亚利,梁勇,佟百运,等. 纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结[J]. 材料研究学报,1997,11.0(005):473-478. |
APA | 李亚利.,梁勇.,佟百运.,郑丰.,马贤峰.,...&赵伟.(1997).纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结.材料研究学报,11.0(005),473-478. |
MLA | 李亚利,et al."纳米非晶Si3N4粉的超高压低温烧结".材料研究学报 11.0.005(1997):473-478. |
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