电脉冲下TiC颗粒增强Ni—Cr合金中位错组态的变化 | |
张伟; 隋曼龄; 周亦胄; 李斗星 | |
2001 | |
Source Publication | 电子显微学报
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ISSN | 1000-6281 |
Volume | 20.0Issue:003Pages:199-202 |
Abstract | TiC颗粒增强Ni80Cr20合金经电脉冲处理后,位错组态发生规整化,平直化排列,位错堆积形成位错墙。这表明电脉冲处理具有类似于退火的回复作用,此外,电脉冲处理还可以起到强化TiC颗粒增强相与基体之间结合的作用。 |
Keyword | 电脉冲处理 位错组态 颗粒增强 TiC颗粒增强Ni80Cr20合金 TEM 微观机制 |
Indexed By | CSCD |
Language | 中文 |
CSCD ID | CSCD:581218 |
Citation statistics | |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/146034 |
Collection | 中国科学院金属研究所 |
Affiliation | 中国科学院金属研究所 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 张伟,隋曼龄,周亦胄,等. 电脉冲下TiC颗粒增强Ni—Cr合金中位错组态的变化[J]. 电子显微学报,2001,20.0(003):199-202. |
APA | 张伟,隋曼龄,周亦胄,&李斗星.(2001).电脉冲下TiC颗粒增强Ni—Cr合金中位错组态的变化.电子显微学报,20.0(003),199-202. |
MLA | 张伟,et al."电脉冲下TiC颗粒增强Ni—Cr合金中位错组态的变化".电子显微学报 20.0.003(2001):199-202. |
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