负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用

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	负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用
	黄美东; 林国强; 董闯; 孙超; 蒋长荣; 黄荣芳; 闻立时
	2001
发表期刊	金属热处理
ISSN	0254-6051
卷号	26.0 期号:007 页码:17-20
摘要	用电弧离子镀方法在高速钢、不锈钢与铜基体上沉积合成Ti/TiCN多层薄膜，在其他参数不变的情况下只改变负偏压，着重考察不同负偏压下薄膜的沉积深度、膜基结合强度、显微硬度以及表面形貌等，研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的作用。结果表明，负偏压影响沉积温度，负偏压值越大，温度越高；负偏压值增大，表面形貌中的大颗粒数量减少，薄膜质量得到改善；负偏压在－300V左右时，膜基结合强度与硬度出现对应最佳性能点的峰值。
关键词	电弧离子镀负偏压多层薄膜氮化钛碳氮化钛
收录类别	CSCD
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:674485
引用统计	被引频次：7[CSCD] [CSCD记录]
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/147869
专题	中国科学院金属研究所
作者单位	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	黄美东,林国强,董闯,等. 负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用[J]. 金属热处理,2001,26.0(007):17-20.
APA	黄美东.,林国强.,董闯.,孙超.,蒋长荣.,...&闻立时.(2001).负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用.金属热处理,26.0(007),17-20.
MLA	黄美东,et al."负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用".金属热处理 26.0.007(2001):17-20.