| 负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用 | |
| 黄美东; 林国强; 董闯; 孙超; 蒋长荣; 黄荣芳; 闻立时 | |
| 2001 | |
| Source Publication | 金属热处理
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| ISSN | 0254-6051 |
| Volume | 26.0Issue:007Pages:17-20 |
| Abstract | 用电弧离子镀方法在高速钢、不锈钢与铜基体上沉积合成Ti/TiCN多层薄膜，在其他参数不变的情况下只改变负偏压，着重考察不同负偏压下薄膜的沉积深度、膜基结合强度、显微硬度以及表面形貌等，研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的作用。结果表明，负偏压影响沉积温度，负偏压值越大，温度越高；负偏压值增大，表面形貌中的大颗粒数量减少，薄膜质量得到改善；负偏压在－300V左右时，膜基结合强度与硬度出现对应最佳性能点的峰值。 |
| Keyword | 电弧离子镀 负偏压 多层薄膜 氮化钛 碳氮化钛 |
| Indexed By | CSCD |
| Language | 中文 |
| CSCD ID | CSCD:674485 |
| Citation statistics |
Cited Times:7[CSCD]
[CSCD Record]
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| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/147869 |
| Collection | 中国科学院金属研究所 |
| Affiliation | 中国科学院金属研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 黄美东,林国强,董闯,等. 负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用[J]. 金属热处理,2001,26.0(007):17-20. |
| APA | 黄美东.,林国强.,董闯.,孙超.,蒋长荣.,...&闻立时.(2001).负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用.金属热处理,26.0(007),17-20. |
| MLA | 黄美东,et al."负偏压在电弧离子镀沉积TiN／TiCN多层薄膜中的作用".金属热处理 26.0.007(2001):17-20. |
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