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有序介孔SiO2在低表面活性剂下的制备及表征
王金忠1; 赵岩2; 张彩碚3; 王明光3
2002
Source Publication沈阳建筑工程学院学报:自然科学版
ISSN1671-2021
Volume18.0Issue:003Pages:197-200
Abstract论述了碱性介质条件下,采用低表面活性剂浓度,在表面活性剂与硅源的魔鬼洋比仅为0.06:1的条件下,利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚焦体互作用,在溶液中形成分子自组装体,进而形成有序介孔SiO2材料,并对其进行HRTEM分析和小角度XRD分析,以及红外可见光谱FT-IR分析,研究表明:在低表面活性剂下,经分子自组装可形成排列有序的六方结构,水势条件下使分子的作用增强,介孔骨架中硅原子的聚集度提高,实验说明铝原子的引入了取代部分硅原子导致晶格增大,并可使有序介孔结构保持完好。
Keyword有序介孔SiO2 低表面活性剂 模板剂 分子自组装
Indexed ByCSCD
Language中文
CSCD IDCSCD:1158659
Citation statistics
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/148666
Collection中国科学院金属研究所
Affiliation1.沈阳建筑大学
2.中国科学院金属研究所
3.东北大学
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GB/T 7714
王金忠,赵岩,张彩碚,等. 有序介孔SiO2在低表面活性剂下的制备及表征[J]. 沈阳建筑工程学院学报:自然科学版,2002,18.0(003):197-200.
APA 王金忠,赵岩,张彩碚,&王明光.(2002).有序介孔SiO2在低表面活性剂下的制备及表征.沈阳建筑工程学院学报:自然科学版,18.0(003),197-200.
MLA 王金忠,et al."有序介孔SiO2在低表面活性剂下的制备及表征".沈阳建筑工程学院学报:自然科学版 18.0.003(2002):197-200.
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