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TiO2薄膜的光电催化性能及电化学阻抗谱研究
其他题名Photoelectrocatalytic Properties and Electrochemical Impedance Spectroscopy of TiO2 Thin Film Electrode by DC Reactive Magnetron Sputtering
尹荔松; 向成承; 闻立时; 周克省; 潘吉浪
2007
发表期刊世界科技研究与发展
ISSN1006-6055
卷号29.0期号:003页码:1-5
摘要用直流磁控溅射法在钛网上制备了TiO2薄膜催化剂,采用电化学阻抗谱(EIS)对其阻抗谱特征进行了表征.同时以偶氮酸性红溶液为模型污染物,验证了此工作电极在不同条件下的光电催化活性与阻抗谱之间的关系.研究表明:光电催化实验中TiO2薄膜在同时有紫外光和外加阳极偏压的情况下,有效实现电子-空穴分离,具有最好的催化活性;最佳的外加阳极偏压值为0.3V;其EIS Nyquist图上阻抗环半径也在此时最小,最容易发生反应,与光电催化实验结果一致.
其他摘要Titanium oxide thin Films were deposited by D. C. reactive magnetron sputtering from a pure 99. 9% Ti disk. The results of the electrochemical impedance spectroscopy(EIS) investigation indicated that the diameters of the capacitive arcs of the TiO2 with UV and anodic bias potential were much smaller than those of dark space,thus inviting a higher photoelectrocatalytic activity. When an external bias was applied on the TiO2, the arc of EIS Nyquist plot decreased obviously than without the bias, suggesting more efficient separation of the photo - generated carriers. The degradation of azocarmine was most effective when the external potential is up to 0.3V.
关键词光电催化 TiO2薄膜 直流反应磁控溅射 电化学阻抗谱 阳极偏压
收录类别CSCD
语种中文
CSCD记录号CSCD:2929529
引用统计
被引频次:5[CSCD]   [CSCD记录]
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/157453
专题中国科学院金属研究所
作者单位中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
尹荔松,向成承,闻立时,等. TiO2薄膜的光电催化性能及电化学阻抗谱研究[J]. 世界科技研究与发展,2007,29.0(003):1-5.
APA 尹荔松,向成承,闻立时,周克省,&潘吉浪.(2007).TiO2薄膜的光电催化性能及电化学阻抗谱研究.世界科技研究与发展,29.0(003),1-5.
MLA 尹荔松,et al."TiO2薄膜的光电催化性能及电化学阻抗谱研究".世界科技研究与发展 29.0.003(2007):1-5.
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