| Ti-B-N膜层显微组织与性能的研究 |
| 杨巧勤
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| 学位类型 | 硕士
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| 导师 | 庄育智
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| 1988
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| 学位授予单位 | 中国科学院金属研究所
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| 学位授予地点 | 中国科学院金属研究所
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| 摘要 | 采用EB－离子镀与N离子轰击工艺制备了硼含量为5at%-16at%的Ti-B－N膜层，并以EM－420分析电镜的形貌观察及μ－μ电子衍射为主要手段，综合运用了SEM。x-射线、IPMA、EPMA、AMS、EDAx和核反应分析等现代物理实验手段，分析了膜层的显微组织，结果表明：Ti-B－N膜层由TiN（面心立方）、TiB（简单正交）、BN（金刚石结构）和Ti-B－N（简单六角）等多相复合而成，膜层为致密均匀的纤维状纳晶结构，最大晶粒度不超过500A°，膜／基界面结合紧密，有一约200A°的界面过渡层，形成了界面相FeTi和Fe_2Ti。Ti-B－N膜层特殊的显微组织决定了它具有超高硬度（35－52GPa）、良好膜／基界面结合强度、良好韧性，对金刚石压头低的摩擦系数等优良力学性能。膜层沉积工艺对膜层显微组织与性能影响很大，适当的基材偏压可激发化合物与亚稳相的形成；N离子轰击可激发化学反应，提高膜／基界面结合强度，降低必要膜层沉积温度；适当的后热处理可使膜层性能得到改善。高温热处理使膜层晶粒产生薄片组织，晶粒长大，一些亚稳相发生转化，从而使膜层硬度降低。 |
| 页数 | 65
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| 语种 | 中文
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| 文献类型 | 学位论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/17317
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
杨巧勤. Ti-B-N膜层显微组织与性能的研究[D]. 中国科学院金属研究所. 中国科学院金属研究所,1988.
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