电弧离子镀制备CrN_x薄膜中熔滴的结构表征与形成机制

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	电弧离子镀制备CrN_x薄膜中熔滴的结构表征与形成机制
	陈康敏; 郑陈超; 张晓柠; 黄燕; 关庆丰; 宫磊; 孙超
	2011-11-15
发表期刊	真空科学与技术学报
期号	6 页码:681-685
摘要	应用电弧离子镀技术,在不同的氮气分压(0.5~2.5 Pa)和脉冲偏压(0~-300 V)条件下对TC4基体沉积CrNx薄膜,采用扫描电镜和透射电镜对镀膜过程中产生的熔滴现象进行分析研究。结果表明,升高氮气分压能减少靶材排出粒子团数量,改变等离子体轰击作用,从而控制熔滴数量及尺寸,改善薄膜表面平整度;脉冲偏压能够使熔滴与薄膜紧密结合,改变熔滴成分,在一定范围内能促进靶材成分熔滴的形成。
部门归属	江苏大学材料科学与工程学院;中国科学院金属研究所材料表面工程研究部;
关键词	电弧离子镀 Crnx薄膜熔滴扫描电镜透射电镜
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23283
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	陈康敏,郑陈超,张晓柠,等. 电弧离子镀制备CrN_x薄膜中熔滴的结构表征与形成机制[J]. 真空科学与技术学报,2011(6):681-685.
APA	陈康敏.,郑陈超.,张晓柠.,黄燕.,关庆丰.,...&孙超.(2011).电弧离子镀制备CrN_x薄膜中熔滴的结构表征与形成机制.真空科学与技术学报(6),681-685.
MLA	陈康敏,et al."电弧离子镀制备CrN_x薄膜中熔滴的结构表征与形成机制".真空科学与技术学报 .6(2011):681-685.