电解抛光态690TT合金经不同时间浸泡后表面氧化膜结构分析

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	电解抛光态690TT合金经不同时间浸泡后表面氧化膜结构分析
	张志明; 王俭秋; 韩恩厚; 柯伟
	2011-07-11
发表期刊	金属学报
期号	7 页码:831-838
摘要	利用AFM,SEM,TEM,EDS及XPS分析了电解抛光处理690TT合金在含B和Li,充H_2的高温高压水溶液中经不同时间浸泡后表面生长氧化膜的微观结构.结界表明,从短期氧化到长期氧化,氧化膜表面形貌变化不明显;氧化膜主要由具有尖晶石结构的氧化物和单质Ni构成.浸泡720,1440和2160h后,氧化膜均由外层、中间层和内层构成:外层是分散的富含Ni和Fe的尖晶石结构的大颗粒氧化物;中间层是疏松的富含Ni的尖晶石结构的针状氧化物;内层是连续致密的富Cr氧化物.仅氧化膜中的内层氧化物能对基体起到良好的保护作用.电解抛光处理不利于690TT合金表面保护性氧化膜的快速生长.浸泡至2160 h后,氧化膜依然缺乏保护性.内层氧化膜的平均生长速率并未显著降低.
部门归属	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室;
关键词	690tt合金电解抛光处理浸泡时间氧化膜保护性结构
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23384
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	张志明,王俭秋,韩恩厚,等. 电解抛光态690TT合金经不同时间浸泡后表面氧化膜结构分析[J]. 金属学报,2011(7):831-838.
APA	张志明,王俭秋,韩恩厚,&柯伟.(2011).电解抛光态690TT合金经不同时间浸泡后表面氧化膜结构分析.金属学报(7),831-838.
MLA	张志明,et al."电解抛光态690TT合金经不同时间浸泡后表面氧化膜结构分析".金属学报 .7(2011):831-838.