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轴对称磁场对电弧离子镀TiN薄膜结构及摩擦性能的影响
肖金泉; 郎文昌; 赵彦辉; 宫骏; 孙超; 闻立时
2011-05-11
Source Publication金属学报
Issue5Pages:566-572
Abstract利用轴对称磁场增强电弧离子镀工艺制备TiN薄膜,对薄膜表面大颗粒尺寸、数量及大颗粒与薄膜的面积比进行了分析统计,研究了轴对称磁场横向分量强度对薄膜表面大颗粒尺寸和数量、薄膜组织结构及摩擦性能的影响,结果表明,随着轴对称磁场横向分量强度的增加,大颗粒的尺寸和数量大幅度减少,不同尺寸大颗粒的形貌差别很大,TiN薄膜的(111)择优取向增强,薄膜的晶粒尺寸减小且分布均匀:同时,薄膜的摩擦系数及其随时间的波动减小,耐磨性增强.
description.department中国科学院金属研究所材料表面工程研究部;温州职业技术学院材料成型工艺与模具技术重点实验室;
Keyword轴对称磁场 电弧离子镀 大颗粒 组织结构 摩擦性能
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23443
Collection中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
肖金泉,郎文昌,赵彦辉,等. 轴对称磁场对电弧离子镀TiN薄膜结构及摩擦性能的影响[J]. 金属学报,2011(5):566-572.
APA 肖金泉,郎文昌,赵彦辉,宫骏,孙超,&闻立时.(2011).轴对称磁场对电弧离子镀TiN薄膜结构及摩擦性能的影响.金属学报(5),566-572.
MLA 肖金泉,et al."轴对称磁场对电弧离子镀TiN薄膜结构及摩擦性能的影响".金属学报 .5(2011):566-572.
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