| 轴对称磁场对电弧离子镀TiN薄膜结构及摩擦性能的影响 |
| 肖金泉; 郎文昌; 赵彦辉; 宫骏; 孙超; 闻立时
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| 2011-05-11
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发表期刊 | 金属学报
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期号 | 5页码:566-572 |
摘要 | 利用轴对称磁场增强电弧离子镀工艺制备TiN薄膜,对薄膜表面大颗粒尺寸、数量及大颗粒与薄膜的面积比进行了分析统计,研究了轴对称磁场横向分量强度对薄膜表面大颗粒尺寸和数量、薄膜组织结构及摩擦性能的影响,结果表明,随着轴对称磁场横向分量强度的增加,大颗粒的尺寸和数量大幅度减少,不同尺寸大颗粒的形貌差别很大,TiN薄膜的(111)择优取向增强,薄膜的晶粒尺寸减小且分布均匀:同时,薄膜的摩擦系数及其随时间的波动减小,耐磨性增强. |
部门归属 | 中国科学院金属研究所材料表面工程研究部;温州职业技术学院材料成型工艺与模具技术重点实验室;
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关键词 | 轴对称磁场
电弧离子镀
大颗粒
组织结构
摩擦性能
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文献类型 | 期刊论文
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条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23443
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专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式 GB/T 7714 |
肖金泉,郎文昌,赵彦辉,等. 轴对称磁场对电弧离子镀TiN薄膜结构及摩擦性能的影响[J]. 金属学报,2011(5):566-572.
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APA |
肖金泉,郎文昌,赵彦辉,宫骏,孙超,&闻立时.(2011).轴对称磁场对电弧离子镀TiN薄膜结构及摩擦性能的影响.金属学报(5),566-572.
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MLA |
肖金泉,et al."轴对称磁场对电弧离子镀TiN薄膜结构及摩擦性能的影响".金属学报 .5(2011):566-572.
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