AM50镁合金表面含氧化锆的微弧氧化复合涂层的形成过程(英文)

IMR OpenIR

	AM50镁合金表面含氧化锆的微弧氧化复合涂层的形成过程(英文)
	刘锋; 单大勇; 宋影伟; 韩恩厚
	2011-04-15
发表期刊	Transactions of Nonferrous Metals Society of China
期号	4 页码:943-948
摘要	采用扫描电镜(SEM)和电子衍射能谱(EDX)研究在含K2ZrF6的溶液中AM50镁合金表面复合微弧体氧化涂层的形成过程。采用电化学阻抗谱(EIS)研究在微弧体氧化制备膜层过程中膜层耐腐蚀性能的变化。结果表明:当电压小于起弧电压时,合金表面膜层的主要成分为MgO和MgF2;当施加电压超过起弧电压时,锆氧化物开始在合金表面沉积,且膜层的耐腐蚀性随着电压的升高而提高。
部门归属	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室;
关键词	微弧氧化膜锆氧化物 Mgo 耐腐蚀性
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23466
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	刘锋,单大勇,宋影伟,等. AM50镁合金表面含氧化锆的微弧氧化复合涂层的形成过程(英文)[J]. Transactions of Nonferrous Metals Society of China,2011(4):943-948.
APA	刘锋,单大勇,宋影伟,&韩恩厚.(2011).AM50镁合金表面含氧化锆的微弧氧化复合涂层的形成过程(英文).Transactions of Nonferrous Metals Society of China(4),943-948.
MLA	刘锋,et al."AM50镁合金表面含氧化锆的微弧氧化复合涂层的形成过程(英文)".Transactions of Nonferrous Metals Society of China .4(2011):943-948.