超声电沉积铜叠层膜及其耐腐蚀性能研究 | |
崔荣洪; 于志明; 何宇廷; 舒文军; 杜金强; 牛云松 | |
2011-04-15 | |
Source Publication | 中国腐蚀与防护学报
![]() |
Issue | 2Pages:145-148 |
Abstract | 采用超声电沉积法制备了一种纯铜叠层膜,用扫描电镜、X射线衍射分析、腐蚀失重实验以及电化学测试等手段分析了其显微组织与耐腐蚀性能。结果表明:得到的铜叠层膜每层厚度约为0.3μm,微观结构极为致密;其(200)与(111)晶面取向明显增强,(220)取向则显著减弱。其在20%HNO_3溶液中开始冒气泡的时间(380 s)比普通电沉积铜薄膜(148 s)延迟了近3倍,腐蚀速率明显降低;电化学测试表明,其自腐蚀电位明显高于普通电沉积铜薄膜,自腐蚀电流仅为后者的不到1/5,说明其耐腐蚀性能得到了显著提高。 |
description.department | 空军工程大学工程学院;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室; |
Keyword | 超声电沉积 铜 叠层膜 耐腐蚀性 |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23469 |
Collection | 中国科学院金属研究所 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 崔荣洪,于志明,何宇廷,等. 超声电沉积铜叠层膜及其耐腐蚀性能研究[J]. 中国腐蚀与防护学报,2011(2):145-148. |
APA | 崔荣洪,于志明,何宇廷,舒文军,杜金强,&牛云松.(2011).超声电沉积铜叠层膜及其耐腐蚀性能研究.中国腐蚀与防护学报(2),145-148. |
MLA | 崔荣洪,et al."超声电沉积铜叠层膜及其耐腐蚀性能研究".中国腐蚀与防护学报 .2(2011):145-148. |
Files in This Item: | There are no files associated with this item. |
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment