电弧法制备的Cr纳米粉与Ni共沉积行为的电化学研究

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	电弧法制备的Cr纳米粉与Ni共沉积行为的电化学研究
	宗广霞; 彭晓
	2011-03-25
发表期刊	腐蚀科学与防护技术
期号	2 页码:111-115
摘要	采用电弧法分别在高低两种H_2分压下制备了Cr纳米粉(标记为Cr_Ⅰ和Cr_Ⅱ).在电解液中浸泡过的两种Cr纳米粉的XPS分析结果表明,Cr_Ⅱ纳米粉表面在电解液中形成的Cr_2O_3膜比Cr_Ⅰ薄.电化学分析表明,Cr_Ⅱ纳米粉表面更易吸附Cl~-,导致其更容易与Ni共电沉积,这是因为表面氧化膜较薄的Cr_Ⅱ粉,氧化膜可被表面吸附的C1~-点蚀而穿透,导电性增强,使得Ni~(2+)更容易在其表面上还原,快速将Cr_Ⅱ嵌入共电沉积层中.
部门归属	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室;
关键词	Cr纳米粉电化学研究共电沉积电弧法
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23493
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	宗广霞,彭晓. 电弧法制备的Cr纳米粉与Ni共沉积行为的电化学研究[J]. 腐蚀科学与防护技术,2011(2):111-115.
APA	宗广霞,&彭晓.(2011).电弧法制备的Cr纳米粉与Ni共沉积行为的电化学研究.腐蚀科学与防护技术(2),111-115.
MLA	宗广霞,et al."电弧法制备的Cr纳米粉与Ni共沉积行为的电化学研究".腐蚀科学与防护技术 .2(2011):111-115.