| TiO_2纳米孔结构的XPS研究 |
| 顾剑锋; 闻明; 刘刚; 吕坚
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| 2011-03-15
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| 发表期刊 | 稀有金属材料与工程
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| 期号 | 3页码:523-525 |
| 摘要 | 采用表面机械研磨处理技术(Surface mechanical attrition treatment,SMAT)在工业纯Ti的表面制备出一层厚度约30μm纳米结构表层,最表层的平均晶粒尺寸约30nm。随后在常温(25℃)下对其进行双氧水及400℃煅烧处理,并采用X射线光电子能谱(XPS)等手段进行了逐层结构分析。结果表明,SMAT Ti表面与粗晶Ti表层形成的氧化层结构存在明显差别。 |
| 部门归属 | 上海交通大学上海市激光制造与材料改性重点实验室;中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家实验室;香港理工大学;
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| 关键词 | Smat
纳米ti
Xps逐层分析
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23508
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
顾剑锋,闻明,刘刚,等. TiO_2纳米孔结构的XPS研究[J]. 稀有金属材料与工程,2011(3):523-525.
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| APA |
顾剑锋,闻明,刘刚,&吕坚.(2011).TiO_2纳米孔结构的XPS研究.稀有金属材料与工程(3),523-525.
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| MLA |
顾剑锋,et al."TiO_2纳米孔结构的XPS研究".稀有金属材料与工程 .3(2011):523-525.
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