| 电沉积防护性硅烷薄膜的研究现状与展望 |
| 胡吉明; 杨亚琴; 张鉴清; 曹楚南
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| 2011-02-15
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| 发表期刊 | 中国腐蚀与防护学报
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| 期号 | 1页码:1-9 |
| 摘要 | 介绍电沉积硅烷Sol-gel薄膜的原理、方法、用途与研究进展,并着重介绍电沉积硅烷薄膜在金属表面防护处理中的应用。针对防护性的特殊要求,提出电沉积硅烷薄膜研究中的难点与展望。 |
| 部门归属 | 浙江大学化学系;中国科学院金属研究所腐蚀与防护国家重点实验室;
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| 关键词 | 硅烷膜
电沉积
防腐蚀
进展
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23534
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
胡吉明,杨亚琴,张鉴清,等. 电沉积防护性硅烷薄膜的研究现状与展望[J]. 中国腐蚀与防护学报,2011(1):1-9.
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| APA |
胡吉明,杨亚琴,张鉴清,&曹楚南.(2011).电沉积防护性硅烷薄膜的研究现状与展望.中国腐蚀与防护学报(1),1-9.
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| MLA |
胡吉明,et al."电沉积防护性硅烷薄膜的研究现状与展望".中国腐蚀与防护学报 .1(2011):1-9.
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