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电弧离子镀制备Cr-O-N涂层及生长机理探讨
李伟洲; 李月巧; 梁天权; 胡治流; 孙超
2009-02-20
发表期刊广西大学学报(自然科学版)
期号1页码:101-105
摘要为了弄清O2和N2的流量变化和基体负偏压对涂层微观结构的影响,利用电弧离子镀技术制备了Cr-O-N涂层,对涂层样品进行了X射线衍射分析,扫描电镜和原子力显微镜观察,电子探针成分分析,结果表明Cr-O-N涂层含CrN和Cr2O3相,衍射峰的择优取向、涂层的表面粗糙度、相含量和化学成分与制备过程中的气体流量、基体负偏压等因素密切相关:随着氧流量的增加,涂层的表面粗糙度上升,涂层中氧元素含量和Cr2O3相含量增多;基体负偏压的升高有利于涂层沿CrN(220),Cr2O3(300)面择优生长和涂层的致密性提高.
部门归属广西大学材料科学与工程学院;中国科学院金属研究所表面工程部;
关键词电弧离子镀 Cr-o-n涂层 气体流量 表面粗糙度
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24195
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李伟洲,李月巧,梁天权,等. 电弧离子镀制备Cr-O-N涂层及生长机理探讨[J]. 广西大学学报(自然科学版),2009(1):101-105.
APA 李伟洲,李月巧,梁天权,胡治流,&孙超.(2009).电弧离子镀制备Cr-O-N涂层及生长机理探讨.广西大学学报(自然科学版)(1),101-105.
MLA 李伟洲,et al."电弧离子镀制备Cr-O-N涂层及生长机理探讨".广西大学学报(自然科学版) .1(2009):101-105.
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