CF_4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究

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	CF_4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究
	高松华; 闻立时; 周克省; 刘洋; 雷明凯
	2009-01-20
发表期刊	功能材料
期号	1 页码:79-81
摘要	利用CF4射频容性耦合等离子体对硅橡胶进行表面双疏改性,用XPS技术分析了处理后硅橡胶表面成分变化,并利用接触角测量研究了表面疏水疏油改性效果。结果表明,CF4射频容性耦合等离子体通过等离子体表面氟化和剥离或刻蚀的相互竞争作用在硅橡胶表面引入大量硅氟基团和少量碳氟基团,两者协同作用使硅橡胶的疏水疏油性能得到大幅提高。
部门归属	中南大学物理科学与技术学院;中国科学院金属研究所;大连理工大学材料科学与工程学院表面工程研究室;
关键词	硅橡胶容性耦合等离子体表面改性 Xps
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24220
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	高松华,闻立时,周克省,等. CF_4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究[J]. 功能材料,2009(1):79-81.
APA	高松华,闻立时,周克省,刘洋,&雷明凯.(2009).CF_4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究.功能材料(1),79-81.
MLA	高松华,et al."CF_4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究".功能材料 .1(2009):79-81.