| 沉积时间对磁控反应溅射制备TiO_2薄膜性能的影响 |
| 张文杰; 朱圣龙; 李瑛; 王福会; 何红波
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| 2008-11-20
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| 发表期刊 | 功能材料
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| 期号 | 11页码:1785-1788 |
| 摘要 | 应用直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上制备了具有光催化活性的TiO2薄膜。TiO2薄膜的厚度随沉积时间的增加而均匀增长。基体温度则在溅射的最初1h很快上升到110℃,溅射7h基体温度不超过130℃。溅射2h得到的是非晶态TiO2薄膜,而溅射3~7h制备的薄膜为锐钛矿型结构。非晶态和小晶粒TiO2薄膜的紫外-可见透射光谱谱带边沿与结晶较好的TiO2薄膜相比有明显的蓝移,薄膜的透射率随沉积时间的增加而下降。钛以四价钛的形式存在于TiO2薄膜中。TiO2薄膜的光催化活性随沉积时间和薄膜厚度的增加而有较大提高。 |
| 部门归属 | 沈阳理工大学环境与化学工程学院;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室;中国科学院沈阳应用生态研究所;
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| 关键词 | 磁控反应溅射
Tio2薄膜
光催化
沉积时间
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24274
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
张文杰,朱圣龙,李瑛,等. 沉积时间对磁控反应溅射制备TiO_2薄膜性能的影响[J]. 功能材料,2008(11):1785-1788.
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| APA |
张文杰,朱圣龙,李瑛,王福会,&何红波.(2008).沉积时间对磁控反应溅射制备TiO_2薄膜性能的影响.功能材料(11),1785-1788.
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| MLA |
张文杰,et al."沉积时间对磁控反应溅射制备TiO_2薄膜性能的影响".功能材料 .11(2008):1785-1788.
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