| 直流磁控溅射钛及钛合金薄膜的性能研究 |
| 张文峰; 刘实; 王隆保; 戎利建
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| 2008-10-20
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| 发表期刊 | 原子能科学技术
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| 期号 | 10页码:933-937 |
| 摘要 | 用直流磁控溅射的方法在Si及Mo基片上制取Ti及其Ti合金薄膜。研究了基片温度等镀膜工艺参数对薄膜性能的影响,并用XPS、XRD、SEM分析薄膜的化学组成和结构特征,对薄膜的生长模式进行分析。结果表明,合金的加入降低了晶粒尺寸;升高温度可增大薄膜晶粒尺寸,改善薄膜结合能力;合金膜的成分与靶材基本一致。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所;
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| 关键词 | 钛
薄膜制备
磁控溅射
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24294
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
张文峰,刘实,王隆保,等. 直流磁控溅射钛及钛合金薄膜的性能研究[J]. 原子能科学技术,2008(10):933-937.
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| APA |
张文峰,刘实,王隆保,&戎利建.(2008).直流磁控溅射钛及钛合金薄膜的性能研究.原子能科学技术(10),933-937.
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| MLA |
张文峰,et al."直流磁控溅射钛及钛合金薄膜的性能研究".原子能科学技术 .10(2008):933-937.
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