| 双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究 |
| 王贺权; 王志坚; 巴德纯; 沈辉; 陈达; 闻立时
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| 2008-09-15
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| 发表期刊 | 真空科学与技术学报
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| 期号 | 5页码:450-453 |
| 摘要 | 应用直流反应磁控溅射设备在铜基底上制备双层TiOxNy选择性吸收薄膜。当第一层薄膜的制备参数不变时,研究了第二层薄膜中N2流量参数对双层薄膜反射率的影响。结果表明,当第二层薄膜氧氮比为1∶1时具有较好的光谱选择吸收特性,并测试了该样品的太阳吸收率和发射率分别αs=0.920、ε=0.03。 |
| 部门归属 | 沈阳航空工业学院;东北大学;中山大学;中国科学院金属研究所;
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| 关键词 | 直流反应磁控溅射
Tioxny
选择性吸收薄膜
反射率
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24327
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
王贺权,王志坚,巴德纯,等. 双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究[J]. 真空科学与技术学报,2008(5):450-453.
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| APA |
王贺权,王志坚,巴德纯,沈辉,陈达,&闻立时.(2008).双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究.真空科学与技术学报(5),450-453.
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| MLA |
王贺权,et al."双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究".真空科学与技术学报 .5(2008):450-453.
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