NiSO_4和Nacl含量对电镀Ni溶液分散能力和Ni沉积层的影响

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	NiSO_4和Nacl含量对电镀Ni溶液分散能力和Ni沉积层的影响
	曲文生; 张功; 楼琅洪; 董加胜; 杨柯
	2008-03-11
发表期刊	金属学报
期号	3 页码:341-345
摘要	通过测量极化和分散能力,对以Watts型电镀Ni溶液为基础的几种溶液进行了研究,考察了NiSO_4和NaCl含量的影响,并采用SEM和XRD方法对Ni沉积层形貌及其结晶择优取向进行了分折.结果表明,综合考虑电导率和极化度的乘积,是显著提升溶液分散能力的重要途径;电沉积Ni镀层表面形貌主要受控于溶液中阴离子种类和数量,其晶粒尺寸和择优取向受控于过电位.
部门归属	中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所沈阳 110016,沈阳 110016,沈阳 110016,沈阳 110016,沈阳 110016
关键词	电导率分散能力 Ni沉积层择优取向
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24481
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	曲文生,张功,楼琅洪,等. NiSO_4和Nacl含量对电镀Ni溶液分散能力和Ni沉积层的影响[J]. 金属学报,2008(3):341-345.
APA	曲文生,张功,楼琅洪,董加胜,&杨柯.(2008).NiSO_4和Nacl含量对电镀Ni溶液分散能力和Ni沉积层的影响.金属学报(3),341-345.
MLA	曲文生,et al."NiSO_4和Nacl含量对电镀Ni溶液分散能力和Ni沉积层的影响".金属学报 .3(2008):341-345.