| 电参数对镁合金微弧氧化膜厚度的影响 |
| 张荣发; 单大勇; 陈荣石; 韩恩厚
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| 2007-10-15
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| 发表期刊 | 中国有色金属学报
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| 期号 | 10页码:1574-1579 |
| 摘要 | 在自行研制的电解液中,采用四因素三水平正交实验,系统研究频率、占空比、电流密度和终电压对AZ91HP镁合金氧化膜厚度的影响。结果表明,各因素的主次顺序为终电压>电流密度>占空比>频率。终电压对氧化膜厚度影响显著,电流密度对氧化膜厚度有影响但不显著,占空比和频率对氧化膜厚度无显著影响。氧化膜层的耐蚀性并不是仅仅由厚度决定,而是由多种因素综合作用的结果。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所材料环境腐蚀中心,中国科学院金属研究所材料环境腐蚀中心,中国科学院金属研究所材料环境腐蚀中心,中国科学院金属研究所材料环境腐蚀中心 沈阳110016,江西科技师范学院江西省材料表面工程重点实验室,南昌330013,沈阳110016,沈阳110016,沈阳110016
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| 关键词 | 镁合金
微弧氧化
电参数
厚度
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24604
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
张荣发,单大勇,陈荣石,等. 电参数对镁合金微弧氧化膜厚度的影响[J]. 中国有色金属学报,2007(10):1574-1579.
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| APA |
张荣发,单大勇,陈荣石,&韩恩厚.(2007).电参数对镁合金微弧氧化膜厚度的影响.中国有色金属学报(10),1574-1579.
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| MLA |
张荣发,et al."电参数对镁合金微弧氧化膜厚度的影响".中国有色金属学报 .10(2007):1574-1579.
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