| 磁控反应溅射氧流量变化对TiO_2薄膜影响的实验研究 |
| 常学森; 巴德纯; 闻立时; 刘坤
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| 2007-09-15
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| 发表期刊 | 真空与低温
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| 期号 | 3页码:163-167 |
| 摘要 | 通过中频交流磁控溅射设备,利用金属Ti靶制备出了有一定厚度的、质量较好的TiO2薄膜,TiO2薄膜被沉积在玻璃基底上。利用各种分析测试手段对其性能进行了测试,初步探讨了不同氧流量对TiO2薄膜的影响。实验表明,不同氧流量下制备的TiO2薄膜的亲水特性发生了变化。 |
| 部门归属 | 东北大学真空与流体工程研究中心,东北大学真空与流体工程研究中心,中国科学院金属研究所,东北大学真空与流体工程研究中心 辽宁沈阳110004,辽宁沈阳110004,辽宁沈阳110015,辽宁沈阳110004
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| 关键词 | 纳米二氧化钛
薄膜
光电效应
亲水性
磁控溅射
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24625
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
常学森,巴德纯,闻立时,等. 磁控反应溅射氧流量变化对TiO_2薄膜影响的实验研究[J]. 真空与低温,2007(3):163-167.
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| APA |
常学森,巴德纯,闻立时,&刘坤.(2007).磁控反应溅射氧流量变化对TiO_2薄膜影响的实验研究.真空与低温(3),163-167.
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| MLA |
常学森,et al."磁控反应溅射氧流量变化对TiO_2薄膜影响的实验研究".真空与低温 .3(2007):163-167.
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