| 中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质 |
| 廖国进; 闻立时; 巴德纯; 刘斯明
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| 2007-05-15
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| 发表期刊 | 东北大学学报(自然科学版)
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| 期号 | 5页码:687-691 |
| 摘要 | 采用中频反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Al2O3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其他物理特性的方法.对Al2O3薄膜进行透射谱测量,通过对薄膜折射率、吸收系数、膜厚度与入射光波长相互关系的分析,获得了Al2O3薄膜在400~1 100 nm区域内的折射率、吸收系数与入射光波长的关系式,以及Al2O3薄膜厚度的计算公式. |
| 部门归属 | 东北大学机械工程与自动化学院,中国科学院金属研究所表面工程部,东北大学机械工程与自动化学院,北京航空航天大学机械工程与自动化学院 辽宁沈阳110004,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110004,北京100083
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| 关键词 | Al2o3薄膜
光学性质
折射率
吸收系数
膜厚度
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24725
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
廖国进,闻立时,巴德纯,等. 中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质[J]. 东北大学学报(自然科学版),2007(5):687-691.
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| APA |
廖国进,闻立时,巴德纯,&刘斯明.(2007).中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质.东北大学学报(自然科学版)(5),687-691.
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| MLA |
廖国进,et al."中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质".东北大学学报(自然科学版) .5(2007):687-691.
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