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熔融硅液相浸渍法制备C/C-SiC复合材料
王道岭; 汤素芳; 邓景屹; 刘文川
2007-04-25
发表期刊材料研究学报
期号2页码:135-139
摘要采用熔融硅液相浸溃法制备了C/C-SiC复合材料,反应生成的SiC主要分布在层间孔和束间孔碳基体表面,少量分布在束内孔.1600℃渗硅2 h,硅化深度约为2~4μm.由于液态硅与碳之间的润湿性很好,在碳基体表面形成了连续的SiC层,局部有粗大的多面碳化硅颗粒生成;讨论了细晶粒连续SiC层和SiC粗晶粒形成机理.由于SiC的加入,材料的抗氧化性能得到明显改善.
部门归属中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 沈阳 110016,沈阳 110016,沈阳 110016,沈阳 110016
关键词复合材料 熔融硅 液相浸渍 C/c-sic复合材料 抗氧化
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24746
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王道岭,汤素芳,邓景屹,等. 熔融硅液相浸渍法制备C/C-SiC复合材料[J]. 材料研究学报,2007(2):135-139.
APA 王道岭,汤素芳,邓景屹,&刘文川.(2007).熔融硅液相浸渍法制备C/C-SiC复合材料.材料研究学报(2),135-139.
MLA 王道岭,et al."熔融硅液相浸渍法制备C/C-SiC复合材料".材料研究学报 .2(2007):135-139.
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