| 氮化铝薄膜发光性能研究进展 |
| 佟洪波; 巴德纯; 肖金泉; 闻立时
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| 2007-03-25
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| 发表期刊 | 真空
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| 期号 | 2页码:22-26 |
| 摘要 | 介绍了AlN薄膜物理性质及制备方法;综述了AlN薄膜作为薄膜电致发光(TFEL)器件发光层的研究现状;对AlN薄膜发光性能的应用前景做了展望。 |
| 部门归属 | 东北大学,辽宁石油化工大学 辽宁抚顺113001,东北大学,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,,辽宁沈阳110004,辽宁沈阳110004,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016
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| 关键词 | Aln薄膜
发光
Tfel器件
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24778
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
佟洪波,巴德纯,肖金泉,等. 氮化铝薄膜发光性能研究进展[J]. 真空,2007(2):22-26.
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| APA |
佟洪波,巴德纯,肖金泉,&闻立时.(2007).氮化铝薄膜发光性能研究进展.真空(2),22-26.
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| MLA |
佟洪波,et al."氮化铝薄膜发光性能研究进展".真空 .2(2007):22-26.
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