| 原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用 |
| 陈荣敏; 张蕾; 严川伟
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| 2007-02-01
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发表期刊 | 航空材料学报
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期号 | 1页码:41-45 |
摘要 | 为研究真空紫外与原子氧的协同作用,进行了环氧树脂和有机硅树脂的原子氧/真空紫外交互的地面模拟实验,结果表明:在交互作用中,对有机涂层破坏的主导因素是原子氧,真空紫外线起到协同作用,在切断有机高分子材料化学键的同时,为原子氧提供了反应基,加速了原子氧的反应速率。对比真空紫外辐照和原子氧/真空紫外交互实验结果分析中可以发现,有机硅树脂是较好的耐真空紫外辐射和原子氧侵蚀的有机涂层材料。 |
部门归属 | 中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室 沈阳110016,淮海工学院机械工程系,江苏连云港222005,沈阳110016,辽宁大学化学科学与工程学院,沈阳110036,沈阳110016
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关键词 | 真空紫外辐射
原子氧
降解
协同效应
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文献类型 | 期刊论文
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条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24814
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专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式 GB/T 7714 |
陈荣敏,张蕾,严川伟. 原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用[J]. 航空材料学报,2007(1):41-45.
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APA |
陈荣敏,张蕾,&严川伟.(2007).原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用.航空材料学报(1),41-45.
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MLA |
陈荣敏,et al."原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用".航空材料学报 .1(2007):41-45.
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