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原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用
陈荣敏; 张蕾; 严川伟
2007-02-01
发表期刊航空材料学报
期号1页码:41-45
摘要为研究真空紫外与原子氧的协同作用,进行了环氧树脂和有机硅树脂的原子氧/真空紫外交互的地面模拟实验,结果表明:在交互作用中,对有机涂层破坏的主导因素是原子氧,真空紫外线起到协同作用,在切断有机高分子材料化学键的同时,为原子氧提供了反应基,加速了原子氧的反应速率。对比真空紫外辐照和原子氧/真空紫外交互实验结果分析中可以发现,有机硅树脂是较好的耐真空紫外辐射和原子氧侵蚀的有机涂层材料。
部门归属中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室 沈阳110016,淮海工学院机械工程系,江苏连云港222005,沈阳110016,辽宁大学化学科学与工程学院,沈阳110036,沈阳110016
关键词真空紫外辐射 原子氧 降解 协同效应
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24814
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
陈荣敏,张蕾,严川伟. 原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用[J]. 航空材料学报,2007(1):41-45.
APA 陈荣敏,张蕾,&严川伟.(2007).原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用.航空材料学报(1),41-45.
MLA 陈荣敏,et al."原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用".航空材料学报 .1(2007):41-45.
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