| Y掺杂BaTO_3中异常长大机理的TEM研究 |
| 郑士建; 艾延龄; 马秀良
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| 2006-12-30
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| 发表期刊 | 电子显微学报
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| 期号 | S1页码:93-94 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室 辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016
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| 关键词 | 异常长大:8383
大晶粒:2356
机理:2085
界面反应:2030
掺杂:1991
长大速度:1838
高分辨像:1619
形核:1504
晶界:1388
研究:1241
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24852
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
郑士建,艾延龄,马秀良. Y掺杂BaTO_3中异常长大机理的TEM研究[J]. 电子显微学报,2006(S1):93-94.
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| APA |
郑士建,艾延龄,&马秀良.(2006).Y掺杂BaTO_3中异常长大机理的TEM研究.电子显微学报(S1),93-94.
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| MLA |
郑士建,et al."Y掺杂BaTO_3中异常长大机理的TEM研究".电子显微学报 .S1(2006):93-94.
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