氧原子在γ-TiAl(111)表面吸附的第一性原理研究

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	氧原子在γ-TiAl(111)表面吸附的第一性原理研究
	李虹; 刘利民; 王绍青; 叶恒强
	2006-09-11
发表期刊	金属学报
期号	9 页码:897-902
摘要	运用第一性原理方法对氧原子在γ-TiAl(111)表面的吸附研究表明,氧原子倾向于吸附在近邻表面层多Ti的位置,随着覆盖率的增加,表面不同位置吸附能差别减小．电子结构分析发现,氧原子同表面金属原子形成以离子特性为主的化学吸附．氧化学势对TiAl表面稳定性影响的研究表明,γ-TiAl(111)清洁表面只能在氧化学势很低时可以稳定存在,氧化学势稍高,清洁表面就变得不稳定,氧原子开始吸附,并迅速达到高覆盖率的情况．
部门归属	中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室沈阳 110016,沈阳 110016,沈阳 110016,沈阳 110016
关键词	Γ-tial 第一性原理氧化吸附能表面能化学势
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24959
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	李虹,刘利民,王绍青,等. 氧原子在γ-TiAl(111)表面吸附的第一性原理研究[J]. 金属学报,2006(9):897-902.
APA	李虹,刘利民,王绍青,&叶恒强.(2006).氧原子在γ-TiAl(111)表面吸附的第一性原理研究.金属学报(9),897-902.
MLA	李虹,et al."氧原子在γ-TiAl(111)表面吸附的第一性原理研究".金属学报 .9(2006):897-902.