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颗粒合金膜Co_(20)Ni_xCu_(80-x)巨磁电阻和磁性能
王锋; 张志东
2006-07-25
发表期刊真空
期号4页码:55-57
摘要研究了用快淬制备的铸态和退火处理后的颗粒合金膜Co20N ixCu80-x(0≤X≤20)的磁电阻和磁性能。与高N i的样品相反的是,低N i的样品在低温下ΔR/R上升。无论低N i或高N i样品的剩余磁化强度M r和矫顽力HC都随退火温度的上升而增加。
部门归属泉州师范学院物理系功能材料研究所,中国科学院金属研究所 福建泉州362000,辽宁沈阳110015
关键词巨磁电阻 快淬 颗粒合金膜
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25005
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王锋,张志东. 颗粒合金膜Co_(20)Ni_xCu_(80-x)巨磁电阻和磁性能[J]. 真空,2006(4):55-57.
APA 王锋,&张志东.(2006).颗粒合金膜Co_(20)Ni_xCu_(80-x)巨磁电阻和磁性能.真空(4),55-57.
MLA 王锋,et al."颗粒合金膜Co_(20)Ni_xCu_(80-x)巨磁电阻和磁性能".真空 .4(2006):55-57.
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