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磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究
郑华,刘实,于洪波,朱跃进,王隆保,施力群,刘超卓
2005-12-30
发表期刊原子能科学技术
期号S1页码:88-93+103
摘要采用He/Ar复合气氛下磁控溅射方法,在Ti、TiZrYAl和TiMoYAl等3种薄膜中引入浓度(氦金属比)高达0.19的氦。引入的氦在膜层内沿深度均匀分布,并主要存在于直径为2~5nm的高压He泡内。热解吸实验表明,在相同He含量下,TiHe膜中He的解吸峰温度与氚化钛中衰变产生的3He的解吸峰温度基本一致。与纯钛相比,合金膜中氦的热解吸谱宽化明显,表明He在合金膜内的捕获形式更为复杂。
部门归属中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,复旦大学现代物理研究所,复旦大学现代物理研究所 辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,上海200433,上海200433
关键词磁控溅射 Ti膜 热解吸
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25166
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
郑华,刘实,于洪波,朱跃进,王隆保,施力群,刘超卓. 磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究[J]. 原子能科学技术,2005(S1):88-93+103.
APA 郑华,刘实,于洪波,朱跃进,王隆保,施力群,刘超卓.(2005).磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究.原子能科学技术(S1),88-93+103.
MLA 郑华,刘实,于洪波,朱跃进,王隆保,施力群,刘超卓."磁控溅射法制备含氦钛膜及膜中氦的热解吸研究".原子能科学技术 .S1(2005):88-93+103.
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