| 热丝CVD大面积金刚石薄膜的生长动力学研究 |
| 汪爱英,柯培玲,孙超,黄荣芳,闻立时
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| 2005-09-30
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发表期刊 | 新型炭材料
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期号 | 3页码:229-234 |
摘要 | 在传统工业型热丝化学气相沉积(HFCVD)反应腔内,相关工艺参数取模拟计算优化值的条件下,采用XRD,SEM及Ram an光谱等分析手段研究了单晶S i(100)上较大面积金刚石薄膜的动力学生长行为,讨论了晶格取向的变化规律。结果表明:优化工艺参数条件下,在模拟计算的衬底温度和气体温度分布均匀的区域内,沉积的金刚石薄膜虽存在一定的内应力,但整体薄膜连续、均匀,几何晶形良好,质量较高,生长速率达1.8μm/h。薄膜生长过程中晶形显露面受衬底温度和活性生长基团浓度的影响较大。 |
部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016
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关键词 | 热丝化学气相沉积
金刚石薄膜
动力学生长
模拟计算
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文献类型 | 期刊论文
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条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25264
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专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式 GB/T 7714 |
汪爱英,柯培玲,孙超,黄荣芳,闻立时. 热丝CVD大面积金刚石薄膜的生长动力学研究[J]. 新型炭材料,2005(3):229-234.
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APA |
汪爱英,柯培玲,孙超,黄荣芳,闻立时.(2005).热丝CVD大面积金刚石薄膜的生长动力学研究.新型炭材料(3),229-234.
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MLA |
汪爱英,柯培玲,孙超,黄荣芳,闻立时."热丝CVD大面积金刚石薄膜的生长动力学研究".新型炭材料 .3(2005):229-234.
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