IMR OpenIR
Bl-AlN/TiN(001)界面结构与电子特性
陈东,马秀良
2005-08-25
发表期刊电子显微学报
期号4页码:349
部门归属中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家实验室 辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016
关键词Aln:6254 Tin:5397 界面结构:3620 电子特性:2904 超晶格:2200 高分辨像:1544 投影态密度:903 第一原理:870 赝势方法:857 平面波:814
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25301
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
陈东,马秀良. Bl-AlN/TiN(001)界面结构与电子特性[J]. 电子显微学报,2005(4):349.
APA 陈东,马秀良.(2005).Bl-AlN/TiN(001)界面结构与电子特性.电子显微学报(4),349.
MLA 陈东,马秀良."Bl-AlN/TiN(001)界面结构与电子特性".电子显微学报 .4(2005):349.
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