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原子氧环境中聚酰亚胺的质量变化和侵蚀机制
多树旺,李美栓,张亚明,周延春
2005-08-25
发表期刊材料研究学报
期号4页码:337-342
摘要用石英晶体微天平(QCM)原位监测并研究了聚酰亚胺薄膜在地面原子氧模拟装置中暴露时的质量变化.结果表明,聚酰亚胺薄膜在较低的原子氧束流通量暴露的初期,试样的质量先增加后降低,质量的降低与暴露的时间成正比.在高原子氧束流通量暴露的初期,试样质量的增加不明显,甚至一开始就发生稳态氧化失重.实验数据拟合的结果表明,原子氧对聚合物造成的侵蚀主要发生在有氧原子吸附的表面.质量的增加是由于较低的原子氧通量没有能完全氧化聚合物的表面.原子氧对聚合物材料的侵蚀机制服从Langmuir吸附理论.
部门归属中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室 江西科技师范学院,研究员 沈阳市 110016
关键词材料失效与保护 原子氧 聚酰亚胺 侵蚀 空间材料 空间环境
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25306
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
多树旺,李美栓,张亚明,周延春. 原子氧环境中聚酰亚胺的质量变化和侵蚀机制[J]. 材料研究学报,2005(4):337-342.
APA 多树旺,李美栓,张亚明,周延春.(2005).原子氧环境中聚酰亚胺的质量变化和侵蚀机制.材料研究学报(4),337-342.
MLA 多树旺,李美栓,张亚明,周延春."原子氧环境中聚酰亚胺的质量变化和侵蚀机制".材料研究学报 .4(2005):337-342.
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