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纳米孪晶纯铜的强度和导电性
申勇峰,卢磊,陈先华,钱立华,卢柯
2005-05-12
发表期刊物理
期号5页码:344-347
摘要强度和导电性是金属材料的两个至关重要的性能.常用的金属材料强化方式往往是在提高强度的同时使材料的导电性能明显损失.文章介绍了采用脉冲电解沉积技术制备出具有高密度孪晶片层结构的纯铜薄膜.这种具有纳米尺度的孪晶片层结构的纯铜材料不仅具有非常高的拉伸强度,同时还具有非常高的导电性.拉伸实验表明,当孪晶片层平均厚度小到15nm时,样品的拉伸屈服强度可达900MPa,断裂强度高达1068MPa(约为普通纯铜的10倍以上),并具有与无氧高导铜相当(97%IACS)的室温电导率.
部门归属中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家实验室 沈阳110016,沈阳110016,沈阳110016,沈阳110016,沈阳110016
关键词纯铜 超高强度 导电性 纳米孪晶
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25381
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
申勇峰,卢磊,陈先华,钱立华,卢柯. 纳米孪晶纯铜的强度和导电性[J]. 物理,2005(5):344-347.
APA 申勇峰,卢磊,陈先华,钱立华,卢柯.(2005).纳米孪晶纯铜的强度和导电性.物理(5),344-347.
MLA 申勇峰,卢磊,陈先华,钱立华,卢柯."纳米孪晶纯铜的强度和导电性".物理 .5(2005):344-347.
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