| 磁控溅射Ti合金薄膜结构特征及贮氢性能 |
| 马爱华,郑华,刘实,王隆保
|
| 2005-02-25
|
| 发表期刊 | 材料研究学报
 |
| 期号 | 1页码:64-71 |
| 摘要 | 采用磁控溅射方法制备了Ti膜及TiMo、TiMoYAl和TiZrYAl等三种合金膜.合金膜中Mo、Zr和Al三种元素成份与靶材成分基本一致,而Y元素则与靶材成分有较大的偏差.在400℃吸氢工艺下,四种膜材的吸氢动力学性能良好,没有脱膜现象,饱和吸氢量均可超过1.5(H/M).膜材的吸氢PCT曲线表明,含Mo合金膜材具有最高的吸氢平衡压,外推出的室温下的数量级约为10-4Pa. |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 研究员 沈阳市 110016
|
| 关键词 | 金属材料
磁控溅射
Ti合金薄膜
贮氢
|
| 文献类型 | 期刊论文
|
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25462
|
| 专题 | 中国科学院金属研究所
|
推荐引用方式
GB/T 7714 |
马爱华,郑华,刘实,王隆保. 磁控溅射Ti合金薄膜结构特征及贮氢性能[J]. 材料研究学报,2005(1):64-71.
|
| APA |
马爱华,郑华,刘实,王隆保.(2005).磁控溅射Ti合金薄膜结构特征及贮氢性能.材料研究学报(1),64-71.
|
| MLA |
马爱华,郑华,刘实,王隆保."磁控溅射Ti合金薄膜结构特征及贮氢性能".材料研究学报 .1(2005):64-71.
|
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论