| 电弧离子镀沉积Cr-O-N活性扩散阴挡层 |
| 王启民,郭明虎,柯培玲,孙超,黄荣芳,闻立时
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| 2004-12-11
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| 发表期刊 | 金属学报
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| 期号 | 12页码:1264-1268 |
| 摘要 | 采用电弧离子镀技术在NiCoCrAlY涂层与高温合金基材DSMll间沉积不同成分的Cr-O-N薄膜作为扩散阻挡 层,研究了900℃下氧化1400 h后DSMll／Cr-O-N／NiCoCrAlY体系中Cr-O-N层阻挡合金元素互扩散的行为以及阻 挡层对涂层氧化动力学曲线的影响.结果表明, Cr-O-N层在高温氧化过程中生成与涂层和基材有良好结合的富Al氧化物层, 可以阻挡DSMll基体与NiCoCrAlY涂层间的元素互扩散,起到活性阻挡层的作用;Cr-O-N层中O和N含量影响生成 富Al氧化物层的连续性和致密性,从而影响其阻挡元素互扩散的性能.几种成分的Cr-O-N活性扩散阻挡层对NiCoCrAlY 涂层900℃下的高温氧化性能都有一定的改善作用,改善程度与阻挡层阻挡合金元素互扩散的程度保持一致. |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室 沈阳 110016,沈阳 110016,沈阳 110016,沈阳 110016,沈阳 110016,沈阳 110016
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| 关键词 | Cr-o-n
活性扩散阻挡层
电弧离子镀
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25545
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
王启民,郭明虎,柯培玲,孙超,黄荣芳,闻立时. 电弧离子镀沉积Cr-O-N活性扩散阴挡层[J]. 金属学报,2004(12):1264-1268.
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| APA |
王启民,郭明虎,柯培玲,孙超,黄荣芳,闻立时.(2004).电弧离子镀沉积Cr-O-N活性扩散阴挡层.金属学报(12),1264-1268.
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| MLA |
王启民,郭明虎,柯培玲,孙超,黄荣芳,闻立时."电弧离子镀沉积Cr-O-N活性扩散阴挡层".金属学报 .12(2004):1264-1268.
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