| 脉冲负偏压增强的高质量金刚石薄膜的沉积 |
| 李建国,刘实,李依依,胡东平,李军,季锡林,李力,周德惠
|
| 2004-08-30
|
| 发表期刊 | 金刚石与磨料磨具工程
 |
| 期号 | 4页码:40-42+45 |
| 摘要 | 由于直流偏压方法沉积金刚石薄膜易出现电荷积聚现象 ,从而影响了薄膜的均匀性。本文采用脉冲负偏压增强热丝化学气相沉积 (HFCVD)法 ,以WC -Co硬质合金为衬底制备金刚石薄膜 ,探讨了在不同频率脉冲直流偏压 (5 0 0～5 0 0 0Hz)下 ,脉冲偏压对金刚石薄膜的均匀性、致密性和晶粒度的影响 ,并且讨论了脉冲偏压作用的机理。对沉积的金刚石薄膜进行SEM、XRD和Raman分析。结果表明 ,采用 5 0 0Hz脉冲偏压可获得高质量的金刚石薄膜 ,薄膜的晶粒度小 ,均匀性和致密性较好。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国工程物理研究院,中国工程物理研究院,中国工程物理研究院,中国工程物理研究院,中国工程物理研究院 辽宁沈阳110016,中国工程物理研究院,四川省绵阳市919信箱401分箱621900,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,四川省绵阳市919信箱401分箱621900,四川省绵阳市919信箱401分箱621900,四川省绵阳市919信箱401分箱621900,四川省绵阳市919信箱401分箱621900,四川省绵阳市919信箱401分箱621900
|
| 关键词 | 脉冲偏压
金刚石薄膜
频率
|
| 文献类型 | 期刊论文
|
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25608
|
| 专题 | 中国科学院金属研究所
|
推荐引用方式
GB/T 7714 |
李建国,刘实,李依依,胡东平,李军,季锡林,李力,周德惠. 脉冲负偏压增强的高质量金刚石薄膜的沉积[J]. 金刚石与磨料磨具工程,2004(4):40-42+45.
|
| APA |
李建国,刘实,李依依,胡东平,李军,季锡林,李力,周德惠.(2004).脉冲负偏压增强的高质量金刚石薄膜的沉积.金刚石与磨料磨具工程(4),40-42+45.
|
| MLA |
李建国,刘实,李依依,胡东平,李军,季锡林,李力,周德惠."脉冲负偏压增强的高质量金刚石薄膜的沉积".金刚石与磨料磨具工程 .4(2004):40-42+45.
|
修改评论