光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化 Ⅰ.Al_2O_3相的表征与相转变

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	光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化 Ⅰ.Al_2O_3相的表征与相转变
	彭晓,王福会,D.R.Clarke
	2003-10-11
发表期刊	金属学报
期号	10 页码:1055-1059
摘要	磁控溅射Co—Cr—Al(Y)纳米涂层在1000,1100和1200℃氧化一定时间后,用光激发荧光谱技术表征热生长的Al2O3相.发现氧化层局部区域存在由非稳态相向稳态相的转变,即: γ→θ→α;其转变过程随温度升高显著加快,并在1200℃下变得不明显.在相同温度下,Y明显减缓Al2O3相转变过程.
部门归属	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,Materials Department, College of Engineering, University of California at Santa Barbara, CA 93106-5050 沈阳 110016,沈阳 110016
关键词	光激发荧光谱术 Al2o3 相转变 Co-cr-al(y)纳米涂层磁控溅射
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25972
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	彭晓,王福会,D.R.Clarke. 光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化 Ⅰ.Al_2O_3相的表征与相转变[J]. 金属学报,2003(10):1055-1059.
APA	彭晓,王福会,D.R.Clarke.(2003).光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化 Ⅰ.Al_2O_3相的表征与相转变.金属学报(10),1055-1059.
MLA	彭晓,王福会,D.R.Clarke."光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化 Ⅰ.Al_2O_3相的表征与相转变".金属学报 .10(2003):1055-1059.