| 透明导电ZnO∶Al(ZAO)纳米薄膜的性能分析 |
| 陆峰,徐成海,曹洪涛,裴志亮,孙超,闻立时
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| 2003-02-28
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| 发表期刊 | 真空科学与技术
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| 期号 | 1页码:12-14+18 |
| 摘要 | 用直流反应磁控溅射法制备ZAO纳米薄膜 ,对这种薄膜进行了XRD分析 ,并对其光、电性能作了详细的研究。结果表明 :ZAO薄膜的结构为标准的ZnO纤锌矿相 ,没有Al2 O3 相出现 ;其最低电阻率为 4 5× 10 -4Ω?cm、可见光透射率在 80 %以上 ,红外波段的反射率达 70 %以上 ,是优质的透明导电膜 |
| 部门归属 | 东北大学机械工程与自动化学院,东北大学机械工程与自动化学院,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 沈阳110004中国科学院金属研究所沈阳110015,沈阳110004,沈阳110015,沈阳110015,沈阳110015,沈阳110015
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| 关键词 | Zao薄膜
X射线衍射
电阻率
透射率
反射率
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26195
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
陆峰,徐成海,曹洪涛,裴志亮,孙超,闻立时. 透明导电ZnO∶Al(ZAO)纳米薄膜的性能分析[J]. 真空科学与技术,2003(1):12-14+18.
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| APA |
陆峰,徐成海,曹洪涛,裴志亮,孙超,闻立时.(2003).透明导电ZnO∶Al(ZAO)纳米薄膜的性能分析.真空科学与技术(1),12-14+18.
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| MLA |
陆峰,徐成海,曹洪涛,裴志亮,孙超,闻立时."透明导电ZnO∶Al(ZAO)纳米薄膜的性能分析".真空科学与技术 .1(2003):12-14+18.
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