| 低压等离子喷涂NiCrAlY涂层的恒温氧化特征分析 |
| 张玉娟,孙晓峰,金涛,刘敏,管恒荣,胡壮麒
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| 2003-01-30
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| 发表期刊 | 材料保护
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| 期号 | 1页码:14-16 |
| 摘要 | 低压等离子喷涂 (LPPS)NiCrAlY涂层在 110 0℃恒温氧化 10 0h ,氧化动力学曲线为抛物线状 ,氧化速率常数kp=0 .5 2× 10 - 6 mg- 2 ?cm- 4?s- 1,涂层表面生成α -Al2 O3 保护膜 ,并有Y富集其中。氧化初期 ,氧化膜中夹杂少量θ -Al2 O3 ,很快转变成α -Al2 O3 。氧化膜随氧化时间的延长而增厚 ,并局部与基体开裂、剥落 ,剥落后的涂层表面有孔洞和粘结脊的印记 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,广州有色金属研究院,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,广东广州510651,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016
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| 关键词 | 低压等离子喷涂
Nicraly涂层
恒温氧化
表面氧化膜
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26237
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
张玉娟,孙晓峰,金涛,刘敏,管恒荣,胡壮麒. 低压等离子喷涂NiCrAlY涂层的恒温氧化特征分析[J]. 材料保护,2003(1):14-16.
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| APA |
张玉娟,孙晓峰,金涛,刘敏,管恒荣,胡壮麒.(2003).低压等离子喷涂NiCrAlY涂层的恒温氧化特征分析.材料保护(1),14-16.
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| MLA |
张玉娟,孙晓峰,金涛,刘敏,管恒荣,胡壮麒."低压等离子喷涂NiCrAlY涂层的恒温氧化特征分析".材料保护 .1(2003):14-16.
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