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电弧离子镀Ti(C_xN_(1-x))薄膜的结构和力学性能研究
李明升,王福会,孙超,蒋长荣,闻立时
2002-12-30
发表期刊材料保护
期号12页码:10-12
摘要利用电弧离子镀设备 ,沉积了不同C、N比的Ti(CxN1 -x)薄膜 ,研究了C含量对Ti(CxN1 -x)薄膜的结构 (相结构、择优取向及晶格常数 )及力学性能 (硬度、膜基结合强度及抗磨损性能 )的影响。结果表明 ,复合镀层的C、N比随CH4、H2 流量之比而变化 ,但原子百分数之和基本不变 (约 4 6.5% )。复合镀层结构致密 ,与基体结合良好 ,抗磨和切削性能优于TiC和TiN镀层。
部门归属中科院金属研究所腐蚀与防护国家重点实验室,中科院金属研究所腐蚀与防护国家重点实验室,中科院金属研究所表面工程重点实验室,中科院金属研究所表面工程重点实验室,中科院金属研究所表面工程重点实验室 辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016
关键词离子镀 电弧 Ti(Cxn1-x)薄膜
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26278
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李明升,王福会,孙超,蒋长荣,闻立时. 电弧离子镀Ti(C_xN_(1-x))薄膜的结构和力学性能研究[J]. 材料保护,2002(12):10-12.
APA 李明升,王福会,孙超,蒋长荣,闻立时.(2002).电弧离子镀Ti(C_xN_(1-x))薄膜的结构和力学性能研究.材料保护(12),10-12.
MLA 李明升,王福会,孙超,蒋长荣,闻立时."电弧离子镀Ti(C_xN_(1-x))薄膜的结构和力学性能研究".材料保护 .12(2002):10-12.
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