| 磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究 |
| 詹倩,贺连龙,李斗星
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| 2002-10-25
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| 发表期刊 | 电子显微学报
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| 期号 | 5页码:645-646 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室 辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016,辽宁沈阳110016
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| 关键词 | Fe-n薄膜:7792
微结构表征:4484
溅射:1988
微观结构:1642
高分辨像:1585
沉积时间:1505
材料科学:1481
中国科学院:1384
薄膜厚度:1346
金属研究所:1344
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26371
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
詹倩,贺连龙,李斗星. 磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究[J]. 电子显微学报,2002(5):645-646.
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| APA |
詹倩,贺连龙,李斗星.(2002).磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究.电子显微学报(5),645-646.
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| MLA |
詹倩,贺连龙,李斗星."磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究".电子显微学报 .5(2002):645-646.
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