| 纳米晶钛薄膜的制备及结构分析 |
| 赵越,刘实,汪伟,郝万立,王隆保,李依依
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| 2002-09-20
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| 发表期刊 | 原子能科学技术
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| 期号 | Z1页码:380-383+424 |
| 摘要 | 采用磁控溅射和离子镀膜工艺在Mo基片上制备了具有不同晶粒尺寸的纯Ti薄膜 ,并利用X光衍射 (XRD)、透射电镜 (TEM )和扫描电镜 (SEM )分析和观察了两类Ti膜的结构和形貌。实验结果显示 :与溅射镀膜相比 ,离子镀膜的晶粒择优取向程度略低 ,Ti膜与基片结合较好 ;较高的基片温度有利于提高膜的致密程度 ,并降低膜的晶粒择优取向程序。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 辽宁沈阳110016
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| 关键词 | 纳米晶薄膜
直流磁控溅射
空心阴极离子镀
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26410
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
赵越,刘实,汪伟,郝万立,王隆保,李依依. 纳米晶钛薄膜的制备及结构分析[J]. 原子能科学技术,2002(Z1):380-383+424.
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| APA |
赵越,刘实,汪伟,郝万立,王隆保,李依依.(2002).纳米晶钛薄膜的制备及结构分析.原子能科学技术(Z1),380-383+424.
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| MLA |
赵越,刘实,汪伟,郝万立,王隆保,李依依."纳米晶钛薄膜的制备及结构分析".原子能科学技术 .Z1(2002):380-383+424.
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