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电弧离子镀基体沉积温度计算
黄美东,林国强,董闯,孙超,黄荣芳,闻立时
2001-12-25
发表期刊金属热处理学报
期号4页码:75-80
摘要较详细地考察了电弧离子镀时影响基体沉积温度的因素及影响程度 ,应用能量平衡原理建立了计算基体沉积温度的数学模型。采用该计算模型分析了基体材质、形状与电弧离子镀膜工艺参数改变时基体温度的变化 ,经实验验证 ,模型计算与实验数据基本吻合。
部门归属大连理工大学三束国家重点实验室,大连理工大学三束国家重点实验室,大连理工大学三束国家重点实验室,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 辽宁大连116024中国科学院金属研究所,辽宁沈阳110016,辽宁大连116024,辽宁大连116024,辽宁沈阳11001
关键词计算 基体温度 电弧离子镀
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26729
专题中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
黄美东,林国强,董闯,孙超,黄荣芳,闻立时. 电弧离子镀基体沉积温度计算[J]. 金属热处理学报,2001(4):75-80.
APA 黄美东,林国强,董闯,孙超,黄荣芳,闻立时.(2001).电弧离子镀基体沉积温度计算.金属热处理学报(4),75-80.
MLA 黄美东,林国强,董闯,孙超,黄荣芳,闻立时."电弧离子镀基体沉积温度计算".金属热处理学报 .4(2001):75-80.
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