| 纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化 |
| 付广艳,牛焱,吴维
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| 2001-10-28
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| 发表期刊 | 金属学报
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| 期号 | 10页码:1079-1082 |
| 摘要 | 溅射纳米晶 Ｃｕ－Ｃｒ合金涂层在 ７００－８００℃纯氧和空气中氧化后均形成了单一的 Ｃｒ２Ｏ３膜，但两种气氛下生成的Ｃｒ２Ｏ３膜的形貌及合金的氧化增重不同，这主要与气氛中的氧分压不同及纳米晶Ｃｒ２Ｏ３膜的生长机制有关． |
| 部门归属 | 沈阳化工学院机械工程系,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室 沈阳 110021;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳110016,沈阳110016,沈阳110016
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| 关键词 | 纳米晶
Cu-cr涂层
氧化
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26783
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
付广艳,牛焱,吴维. 纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化[J]. 金属学报,2001(10):1079-1082.
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| APA |
付广艳,牛焱,吴维.(2001).纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化.金属学报(10),1079-1082.
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| MLA |
付广艳,牛焱,吴维."纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化".金属学报 .10(2001):1079-1082.
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