柱状晶界面对溅射NiAl微晶涂层高温氧化性能的影响

IMR OpenIR

	柱状晶界面对溅射NiAl微晶涂层高温氧化性能的影响
	杨松岚,王福会,朱圣龙
	2001-06-28
发表期刊	金属学报
期号	6 页码:625-627
摘要	利用ＴＧＡ，ＳＥＭ对ＮｉＡｌ微晶的涂层在空气中１０００℃恒温及循环氧化过程中柱状晶界面所起的作用进行了研究．结果发现，柱状晶界面微孔在氧化初期作为自由表面严重影响了初始氧化动力学，同时柱状晶界面氧化物微钉的形成大大提高了氧化膜的粘附性建立了基于柱状晶界面的附加自由表面数学模型．
部门归属	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室!沈阳110016,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室!沈阳110016,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室!沈阳110016
关键词	Nial微晶涂层柱状晶界面氧化
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26932
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	杨松岚,王福会,朱圣龙. 柱状晶界面对溅射NiAl微晶涂层高温氧化性能的影响[J]. 金属学报,2001(6):625-627.
APA	杨松岚,王福会,朱圣龙.(2001).柱状晶界面对溅射NiAl微晶涂层高温氧化性能的影响.金属学报(6),625-627.
MLA	杨松岚,王福会,朱圣龙."柱状晶界面对溅射NiAl微晶涂层高温氧化性能的影响".金属学报 .6(2001):625-627.