| 纳米Al膜在可见和红外频段吸收率的尺寸效应 |
| 杜昊; 裴志亮; 华伟刚; 孙超; 黄荣芳; 闻立时
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| 2001-05-15
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| 发表期刊 | 材料导报
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| 期号 | 5页码:61-63 |
| 摘要 | 纳米Al膜在可见和红外频段的吸收率随薄膜厚度变化的关系表明,金属薄膜吸收率具有尺寸效应,并具有极大值。对比纳米Al膜直流电导率的实验结果,结构特征变化是导致吸收率尺寸效应的重要原因。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 沈阳110015,沈阳110015,沈阳110015,沈阳110015,沈阳110015,沈阳110015
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| 关键词 | 纳米al膜
吸收率
尺寸效应
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26972
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
杜昊,裴志亮,华伟刚,等. 纳米Al膜在可见和红外频段吸收率的尺寸效应[J]. 材料导报,2001(5):61-63.
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| APA |
杜昊,裴志亮,华伟刚,孙超,黄荣芳,&闻立时.(2001).纳米Al膜在可见和红外频段吸收率的尺寸效应.材料导报(5),61-63.
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| MLA |
杜昊,et al."纳米Al膜在可见和红外频段吸收率的尺寸效应".材料导报 .5(2001):61-63.
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