| ZnO:Al(ZAO)薄膜的特性研究 |
| 裴志亮,孙超,关德慧,谭明晖,肖金泉,黄容芳,闻立时
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| 2001-04-25
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| 发表期刊 | 自然科学进展
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| 期号 | 4页码:58-63 |
| 摘要 | 用直流磁控反应溅射技术制备了综合性能优良的ZnO:Al(ZAO)薄膜.X光衍射(XRD)、光电子能谱(XPS)和Auger电子能谱(AES)等分析结果表明,适量的铝掺杂和氧流量可有效地控制Al_2O_3相的生成.铝在薄膜表面的存在形式单一,并且Zn,O,Al各元素纵向分布均匀.理论与实验研究表明,对于高度简并的ZAO半导体薄膜,在温度较低时,离化杂质散射占主导地位;温度较高时,晶格振动散射将成为主要的散射机制;晶界散射仅当晶粒尺寸较小(与电子的平均自由程相当)时才起作用.此外,优化工艺参数可获得低电阻率(～5×10~(-4)Ωcm)的ZAO薄膜.在可见光区,其透射率>80％;在近中红外光区,其反射率>60％. |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 沈阳 110015,沈阳 110015,沈阳 110015,沈阳 110015,沈阳 110015,沈阳 110015,沈阳 110015
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| 关键词 | Zno:Al薄膜
掺杂光学性能
散射机制
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/26999
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
裴志亮,孙超,关德慧,谭明晖,肖金泉,黄容芳,闻立时. ZnO:Al(ZAO)薄膜的特性研究[J]. 自然科学进展,2001(4):58-63.
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| APA |
裴志亮,孙超,关德慧,谭明晖,肖金泉,黄容芳,闻立时.(2001).ZnO:Al(ZAO)薄膜的特性研究.自然科学进展(4),58-63.
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| MLA |
裴志亮,孙超,关德慧,谭明晖,肖金泉,黄容芳,闻立时."ZnO:Al(ZAO)薄膜的特性研究".自然科学进展 .4(2001):58-63.
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